ブックタイトル平成26年度 広域多摩イノベーションプラットフォーム事業 新技術創出交流会 参加申込企業 技術アピールシート

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平成26年度 広域多摩イノベーションプラットフォーム事業 新技術創出交流会 参加申込企業 技術アピールシート

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平成26年度 広域多摩イノベーションプラットフォーム事業 新技術創出交流会 参加申込企業 技術アピールシート

※平成26年(2014年)8月25日時点の情報です。技術アピールシート技術分野キーワード電気・電子・光学成膜装置会社名JSWアフティ株式会社資本金10,000万円従業員数41名部署名営業部担当者二宮庸輔〒192-0918所在地東京都八王子市兵衛2-35-2連絡先TEL042-632-8800FAX042-632-8841URLhttp://www.jsw-afty.co.jp/cs/E-mailkin@jsw-afty.co.jp主要事業半導体や光学素子等の先端デバイスの研究開発・製造に使用される高品質成膜装置の開発、設計・製造、販売、アフターサービスPRポイントPR詳細低温・低ダメージで高品質の成膜を特徴とするECRプラズマ成膜装置及び原子層堆積法(ALD)装置により先端デバイスの研究開発・生産をサポートします。■ECRプラズマ成膜装置・ECR = Electron Cyclotron Resonance(電子サイクロトロン共鳴)プラズマを利用した成膜装置です。以下の特徴を有します。-無電極、低ガス圧(0.01 - 0.2 Pa)、高密度(5 - 10 mA/cm2)-基板表面への低エネルギー大電流イオン照射効果により無加熱、低ダメージで緻密・平滑・高品質薄膜を形成ECRプラズマ成膜装置の適用例■原子層堆積法(ALD)成膜装置・原料を原子一層ごとに表面へ吸着させ反応ガスにより成膜する成膜方法です。高品質で膜厚均一性、膜厚制御性に優れた成膜が可能です。特に段差被覆性の点で他の方法に比べて大きな優位点があります。・研究開発から量産まで対応できる拡張性と生産性を考慮したモデルを用意しています。8”ウェハ用コンパクトALD特記事項ISO9001取得171